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窄手性、半导体性单壁碳纳米管的宏量、可控生长方法

  • 申请号:CN201410441540.3
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院金属研究所
  • 公开(公开)号:CN104211044A
  • 公开(公开)日:2014.12.17
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 窄手性、半导体性单壁碳纳米管的宏量、可控生长方法
申请号 CN201410441540.3 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN104211044A 公开(授权)日 2014.12.17
申请(专利权)人 中国科学院金属研究所 发明(设计)人 刘畅;赵石永;侯鹏翔;成会明
主分类号 C01B31/02(2006.01)I IPC主分类号 C01B31/02(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I;B82Y40/00(2011.01)I
专利有效期 窄手性、半导体性单壁碳纳米管的宏量、可控生长方法 至窄手性、半导体性单壁碳纳米管的宏量、可控生长方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及半导体性富集、且特定手性占优单壁碳纳米管的可控制备领域,具体为一种窄手性、半导体性单壁碳纳米管的宏量、可控生长方法。以醇类液态有机物为碳源,氩气为载气和保护气,以高温下结构稳定的多孔介质为担载体,通过浸渍法及后续热处理制备高分散度的双金属催化剂,利用化学气相沉积法生长单壁碳纳米管。双金属催化剂中的一相为高温稳定相,另一相为催化活性相。利用这种催化剂的独特高温结构稳定性,适宜的碳源分解能力,在较宽温度范围内选择性合成了窄手性分布、高质量的半导体性单壁碳纳米管。本发明突破目前窄手性分布碳纳米管生长量少、缺陷多或生长窗口窄等难题,实现宏量、窄手性分布、半导体性单壁碳纳米管的富集生长。

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