专利详情

专利名称	一种单倍率对称式投影曝光物镜
申请号	CN201410479916.X	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN104199173A	公开（授权）日	2014.12.10
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	朱咸昌;胡松;赵立新
主分类号	G02B13/00(2006.01)I	IPC主分类号	G02B13/00(2006.01)I;G02B13/22(2006.01)I;G02B1/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	一种单倍率对称式投影曝光物镜至一种单倍率对称式投影曝光物镜	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种单倍率对称式投影曝光物镜，其作用是把投影光刻机掩模版上的图形经过成像复制后转移到硅片上。投影曝光物镜是光刻机的核心部件，决定了光刻机的主要性能。本发明所涉及的单倍率投影曝光物镜由12片透镜组成，采用对称式结构。物镜分辨力2.5μm，放大倍率为-1，曝光视场15mm×15mm。本投影曝光物镜系统由第一组透镜组、光阑、第二组透镜组构成，第一和第二透镜组相对于光阑对称分布。本投影物镜共轭距为500mm，系统结构紧凑；同时，选用对i线(365nm)透过率较高的玻璃材料，提高系统光学透过率，满足投影光刻机的高精度及高产率需求。