专利详情

专利名称	一种基于光线追踪器的薄膜干涉效果绘制方法
申请号	CN201410393099.6	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN104183007A	公开（授权）日	2014.12.03
申请（专利权）人	中国科学院软件研究所	发明（设计）人	郑昌文;吴付坤
主分类号	G06T15/06(2011.01)I	IPC主分类号	G06T15/06(2011.01)I;G06T17/00(2006.01)I
专利有效期	一种基于光线追踪器的薄膜干涉效果绘制方法至一种基于光线追踪器的薄膜干涉效果绘制方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种基于光线追踪器的薄膜干涉效果绘制方法，应用多光束干涉方程求解多层薄膜混合反射比和透射比，其中单层薄膜表面反射系数和透射系数由菲涅尔公式决定，在薄膜内部的折射角遵从斯涅尔定律；考虑一些薄膜表面因粗糙性产生反射或透射光分布的不规则性，引入粗糙表面散射系数，修正薄膜反射或透射比，模拟彩色高光、各向异性等复杂的光学效果；基于光线追踪器成像机理，构造物理光学与几何光学之间的联系纽带，并生成完整的散射公式。本发明有效提升了现有光线追踪器绘制波动效果的能力；也可继续以插件的形式集成入经典的3D建模软件Maya中，使用户直接通过建模软件，获取所需要的彩色波动效果，进一步提高了以Maya为代表的建模软件的绘制能力，具有很高的应用价值。