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一种用于低温制备光亮铝镀层的离子液体电镀液及其使用方法

  • 申请号:CN201210523573.3
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院过程工程研究所
  • 公开(公开)号:CN103849911A
  • 公开(公开)日:2014.06.11
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种用于低温制备光亮铝镀层的离子液体电镀液及其使用方法
申请号 CN201210523573.3 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103849911A 公开(授权)日 2014.06.11
申请(专利权)人 中国科学院过程工程研究所 发明(设计)人 王倩;张锁江;张亲亲;郑勇
主分类号 C25D3/44(2006.01)I IPC主分类号 C25D3/44(2006.01)I
专利有效期 一种用于低温制备光亮铝镀层的离子液体电镀液及其使用方法 至一种用于低温制备光亮铝镀层的离子液体电镀液及其使用方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明提供了一种用于低温制备光亮铝镀层的离子液体电镀液及其使用方法。它涉及绿色、清洁电镀领域。该电镀液由无水卤化铝(A)、N,N′-二烷基咪唑卤化物(B)和添加剂(C)-吡啶衍生物混合而成。无水卤化铝(A)与N,N′-二烷基咪唑卤化物(B)的表观摩尔比为1∶1~3∶1,添加剂(C)的加入量为0.5~15g/L。操作条件为:惰性气体保护下,阴极电流密度为0.5~5A/dm2,镀液温度为25~100℃,施镀时间为10~120min,搅拌速度为0~500r/min。该方法克服了有机溶剂体系电化学窗口窄、电导率低、挥发性强、易燃烧和无机熔盐体系操作温度高,能耗大,设备腐蚀和环境污染严重等弊病,所得镀层发射率较低,纯度较高,厚度易于控制,并且通过定时定量补加添加剂镀液可重复使用。

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