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一种提高分立式微变形镜填充因子的方法

  • 申请号:CN201410103225.X
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
  • 公开(公开)号:CN103837981A
  • 公开(公开)日:2014.06.04
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种提高分立式微变形镜填充因子的方法
申请号 CN201410103225.X 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103837981A 公开(授权)日 2014.06.04
申请(专利权)人 中国科学院光电技术研究所 发明(设计)人 汪为民;周崇喜;李国俊;王强;邱传凯;岳衢
主分类号 G02B26/08(2006.01)I IPC主分类号 G02B26/08(2006.01)I;G02B26/06(2006.01)I
专利有效期 一种提高分立式微变形镜填充因子的方法 至一种提高分立式微变形镜填充因子的方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种提高分立式微变形镜填充因子的方法,包括一个微缩束镜阵列和一个分立式微变形镜。其特征在于微缩束镜阵列与分立式微变形镜具有相同的单元间距,入射光经过微缩束镜阵列之后被分割并缩束,形成一个光斑阵列,再入射到变形镜表面,阵列中各光斑均投射到变形镜相应单元,各单元根据入射光像差进行相应的校正,使光斑阵列反射回去重新通过微缩束镜阵列扩束合成,实现像差校正。系统填充因子从分立式微变形镜的填充因子提高到了微缩束镜阵列的填充因子。本发明通过分立式微变形镜与微缩束镜阵列的配合解决了变形镜填充因子较低的问题,并相对于现有单一微透镜阵列与分立式微变形镜配合技术克服了引入像差及倾斜像差无法校正的问题。

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