专利详情

专利名称	一种用于光学元件加工的射流喷嘴
申请号	CN201410037800.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103817026A	公开（授权）日	2014.05.28
申请（专利权）人	四川大学;中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	张蓉竹;李秀龙;徐清兰;万勇建;施春燕;罗银川;张杨
主分类号	B05B1/26(2006.01)I	IPC主分类号	B05B1/26(2006.01)I
专利有效期	一种用于光学元件加工的射流喷嘴至一种用于光学元件加工的射流喷嘴	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	用于光学元件加工的射流喷嘴，包括长条状的本体和本体上开设的射流束通道，射流束通道贯穿本体的两平行端面，由进液口、出液口及进液口与出液口之间的汇聚段组成，所述进液口是由位于两端的两条半径相同的半圆形弧线及分别与两条半圆形弧线相切的两条平行直线围成的腰形口，所述汇聚段为射流束通道的内壁，该内壁的左壁和右壁为向出液口收缩的半圆锥台形凹面，该内壁的前壁和后壁分别由一个垂直于本体端面的等腰梯形面和两个向出液口收缩的三角形斜面组成，所述等腰梯形面的上底大于下底，且上底位于进液口上，下底位于出液口上，两个三角形斜面分别位于等腰梯形面的两侧，并分别与形成所述左壁和右壁的向出液口收缩的半圆锥台形凹面相接。