一种结构型吸波材料及其制作方法
- 申请号：CN201410047908.8
- 专利类型：发明专利
- 申请（专利权）人：国家纳米科学中心
- 公开(公开)号：CN103779667A
- 公开(公开)日：2014.05.07
- 法律状态：实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种结构型吸波材料及其制作方法 | ||
| 申请号 | CN201410047908.8 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开（公告）号 | CN103779667A | 公开（授权）日 | 2014.05.07 |
| 申请（专利权）人 | 国家纳米科学中心 | 发明（设计）人 | 董凤良;徐丽华;宋志伟;褚卫国 |
| 主分类号 | H01Q17/00(2006.01)I | IPC主分类号 | H01Q17/00(2006.01)I;H05K9/00(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种结构型吸波材料及其制作方法 至一种结构型吸波材料及其制作方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 一种在硅衬底材料上制作的吸波材料及其制备方法，所述方法包括：在衬底上沉积一层金属膜；然后采用ICPECVD沉积含硅层；旋涂电子束光刻胶，曝光光刻胶，形成周期结构的光刻胶图形；再沉积一层金属膜并进行剥离，最终形成金属膜/含硅介质层/具周期结构的金属膜的吸波材料。本发明提供的方法简单可行，可以通过调整周期结构的形状、周期和介质层的厚度调节电磁波的吸收频段，使制得的吸波材料具备较好的吸波性能。 | ||
交易流程
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