专利详情

专利名称	一种图案化金属电极及其制备方法
申请号	CN201310565869.6	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103606634A	公开（授权）日	2014.02.26
申请（专利权）人	中国科学院化学研究所	发明（设计）人	刘云圻;王翰林;张磊;胡文平;于贵
主分类号	H01L51/56(2006.01)I	IPC主分类号	H01L51/56(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I
专利有效期	一种图案化金属电极及其制备方法至一种图案化金属电极及其制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种图案化金属电极及其制备方法。该制备方法包括如下步骤：（1）在衬底上旋涂聚甲基丙烯酸甲酯得到聚甲基丙烯酸甲酯抗蚀层；（2）通过喷墨打印腐蚀性溶剂，按照版图设计，在所述聚甲基丙烯酸甲酯抗蚀层的表面腐蚀出图案化的结构，即得到图案化的抗蚀层；（3）在所述图案化的抗蚀层的表面沉积金属得到导电层；然后将所述衬底与所述图案化的抗蚀层进行剥离，即得到图案化的金属电极。本发明所涉及的图案化金属电极对于衬底没有特殊要求，能够在绝大多数平面衬底上加工；本发明所涉及的方法具有价格低廉，金属分辨率和光刻工艺分辨率持平，沟道分辨率优于光刻工艺分辨率的优点。