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原位生长SiC纳米线增强C/SiC复合材料及其制备方法

  • 申请号:CN201310504623.8
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海硅酸盐研究所
  • 公开(公开)号:CN103553616A
  • 公开(公开)日:2014.02.05
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 原位生长SiC纳米线增强C/SiC复合材料及其制备方法
申请号 CN201310504623.8 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103553616A 公开(授权)日 2014.02.05
申请(专利权)人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明(设计)人 裴兵兵;朱云洲;黄政仁;姚秀敏;袁明
主分类号 C04B35/524(2006.01)I IPC主分类号 C04B35/524(2006.01)I;C04B35/565(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I
专利有效期 原位生长SiC纳米线增强C/SiC复合材料及其制备方法 至原位生长SiC纳米线增强C/SiC复合材料及其制备方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及一种原位生长SiC纳米线增强C/SiC复合材料及其制备方法,所述制备方法包括:(1)浆料制备:将聚碳硅烷、催化剂、和溶剂混合球磨制得浆料,其中所述催化剂为铁、镍、和/或二茂铁;(2)真空高压浸渍:将C纤维预制体浸入所述浆料中,于真空状态下保持0.1~1小时,然后通入高压惰性气体至1~10MPa,保压1~4小时;(3)交联固化:将浸渍过的C纤维预制体放于空气中6小时以上进行交联固化制得预成型体;以及(4)高温裂解:将所述预成型体在保护气氛下以2~10℃/分钟的升温速率升温至1000~1300℃保温1~4小时,以在所述聚碳硅烷热解过程中在金属催化剂作用下原位生长SiC纳米线,从而制得所述原位生长SiC纳米线增强C/SiC复合材料。

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