一种制备氮化硼单晶的装置及方法
- 申请号:CN201310543084.9
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
- 公开(公开)号:CN103541000A
- 公开(公开)日:2014.01.29
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种制备氮化硼单晶的装置及方法 | ||
| 申请号 | CN201310543084.9 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN103541000A | 公开(授权)日 | 2014.01.29 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 发明(设计)人 | 黄俊;徐科;王建峰;任国强 |
| 主分类号 | C30B25/08(2006.01)I | IPC主分类号 | C30B25/08(2006.01)I;C30B25/10(2006.01)I;C30B29/38(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种制备氮化硼单晶的装置及方法 至一种制备氮化硼单晶的装置及方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明提供一种制备氮化硼单晶的设备及方法,所述方法包括如下步骤(1)提供一衬底,所述衬底放置在反应部内部的支撑部上;(2)启动加热部,将衬底加热至一第二温度;(3)将反应气体及载气通入所述反应部中,以在衬底上生长氮化硼单晶;其中,所述反应气体为三氯化硼和氨气。本发明的优点在于:1、三氯化硼和氨气作为反应气体以制备氮化硼单晶,以氮化硼多晶或刚玉作为反应部的材料,避免三氯化硼对反应部的腐蚀。2、采用感应加热,可得到晶格质量高的氮化硼单晶。3、使用气相外延技术,可以在较大衬底生长氮化硼单晶,能够制备大尺寸的氮化硼单晶且生长速度快。4、生长设备简单,用材料易得,成本较低,可用于大规模生产。 | ||
交易流程
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专利 -
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