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一种大尺寸氧化镓单晶的生长方法及生长装置

  • 申请号:CN201310559528.8
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:上海硅酸盐研究所中试基地;中国科学院上海硅酸盐研究所
  • 公开(公开)号:CN103541008A
  • 公开(公开)日:2014.01.29
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种大尺寸氧化镓单晶的生长方法及生长装置
申请号 CN201310559528.8 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103541008A 公开(授权)日 2014.01.29
申请(专利权)人 上海硅酸盐研究所中试基地;中国科学院上海硅酸盐研究所 发明(设计)人 唐慧丽;徐军;钱小波;罗平;姜大朋;吴锋;王静雅;唐飞
主分类号 C30B29/16(2006.01)I IPC主分类号 C30B29/16(2006.01)I;C30B15/36(2006.01)I
专利有效期 一种大尺寸氧化镓单晶的生长方法及生长装置 至一种大尺寸氧化镓单晶的生长方法及生长装置 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及一种大尺寸氧化镓单晶的生长方法及生长装置,该方法包括:在单晶炉内安装用于加热和保温形成热场的多个热场部件,其水平同中心安装;将内嵌有铱金模具的带盖铱金坩埚放入热场中心;将特定取向的β-Ga2O3籽晶固定于籽晶夹具;将氧化镓原料放入铱金坩埚内,盖好铱金坩埚盖;抽真空后按混合气比例Ar:CO2=9:1~8:2充至炉腔压强为1.05~1.5MPa;感应加热使氧化镓原料完全融化;烤籽晶5~10分钟后接种;待籽晶与熔体充分熔接后引晶缩颈,直至籽晶截面尺寸缩小至1~2mm;扩肩生长阶段;等径生长阶段;晶体生长结束完全脱离模具顶端时停止提拉,缓慢降至室温,获得透明完整无晶界的高质量片状氧化镓单晶。

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