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一种芳纶Ⅲ/聚乙烯醇共混气体分离膜及其制备方法

  • 申请号:CN201310452094.1
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院广州化学研究所
  • 公开(公开)号:CN103537205A
  • 公开(公开)日:2014.01.29
  • 法律状态:授权
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专利详情

专利名称 一种芳纶Ⅲ/聚乙烯醇共混气体分离膜及其制备方法
申请号 CN201310452094.1 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103537205A 公开(授权)日 2014.01.29
申请(专利权)人 中国科学院广州化学研究所 发明(设计)人 胡继文;吴艳;胡盛逾;涂园园;刘峰;刘国军;林树东;杨洋;苗磊
主分类号 B01D71/56(2006.01)I IPC主分类号 B01D71/56(2006.01)I;B01D67/00(2006.01)I;B01D53/22(2006.01)I
专利有效期 一种芳纶Ⅲ/聚乙烯醇共混气体分离膜及其制备方法 至一种芳纶Ⅲ/聚乙烯醇共混气体分离膜及其制备方法 法律状态 授权
说明书摘要 本发明属于芳纶Ⅲ共混材料技术领域,公开了一种超薄、高强度芳纶Ⅲ/聚乙烯醇共混气体分离膜及其制备方法和应用。该制备方法包含以下具体步骤:把芳纶Ⅲ溶解于有机溶剂中,加入助剂和强碱,加热搅拌至均匀,再加入聚乙烯醇,搅拌形成铸膜液;把铸膜液刮涂成膜,蒸发溶剂后,放入凝胶浴中,得到凝胶膜,经热处理后,得到超薄、高强度芳纶Ⅲ/聚乙烯醇共混气体分离膜。本发明将具有较好韧性的聚乙烯醇引入到刚性的杂环芳纶中,既保持芳纶Ⅲ优良性能,又提高其柔韧性,得到的芳纶Ⅲ/聚乙烯醇共混气体分离膜冲击强度为23~44kJ/m2,断裂伸长率为5~9%,膜厚在8~12um,CO2/CH4的分离系数为32~45。

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