石墨烯场效应管的制作方法
- 申请号:CN201310533063.9
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- 公开(公开)号:CN103531482A
- 公开(公开)日:2014.01.22
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 石墨烯场效应管的制作方法 | ||
| 申请号 | CN201310533063.9 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN103531482A | 公开(授权)日 | 2014.01.22 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明(设计)人 | 王浩敏;谢红;孙秋娟;王慧山;吴天如;谢晓明 |
| 主分类号 | H01L21/336(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/336(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I |
| 专利有效期 | 石墨烯场效应管的制作方法 至石墨烯场效应管的制作方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明提供一种石墨烯场效应管的制作方法,包括:提供表面形成有二氧化硅层的半导体衬底;形成浮动电势交流介电泳结构:至少一第一子电极的第一电极部、至少包括一第二子电极和子电极连接线的第二电极部和至少一第三子电极的第三电极部,所述子电极连接线贯穿连接所有所述第二子电极,第二子电极和第三子电极的顶端分别一一相对;形成碳纳米管悬浮液;利用交流介电泳工艺使得每一相对的第二子电极和第三子电极之间连接一碳纳米管;固定所述碳纳米管;利用溅射工艺形成金属层;去除所述金属,形成石墨烯纳米带。本发明成批量实现单根碳纳米管的精确对准,将单壁碳纳米管裁剪成石墨烯纳米带,使之呈现出典型的半导体特性。 | ||
交易流程
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专利 -
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