基于分叉纳米线的多端量子调控器件的制备方法
- 申请号:CN201310503797.2
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
- 公开(公开)号:CN103531441A
- 公开(公开)日:2014.01.22
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 基于分叉纳米线的多端量子调控器件的制备方法 | ||
| 申请号 | CN201310503797.2 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN103531441A | 公开(授权)日 | 2014.01.22 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明(设计)人 | 喻颖;李密锋;贺继方;査国伟;徐建星;尚向军;王莉娟;倪海桥;贺振宏;牛智川 |
| 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/02(2006.01)I;B82Y10/00(2011.01)I |
| 专利有效期 | 基于分叉纳米线的多端量子调控器件的制备方法 至基于分叉纳米线的多端量子调控器件的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 一种基于分叉纳米线的多端量子调控器件的制备方法,包括如下步骤:步骤1:取一Si衬底,该Si衬底的表面存在自然形成的二氧化硅薄层;步骤2:对Si衬底进行清洗;步骤3:采用自催化的方法,在二氧化硅层上生长GaAs纳米线,对该GaAs纳米线选择性进行N型或P型掺杂;步骤4:采用高As压处理消耗GaAs纳米线顶端的Ga液滴,抑制GaAs纳米线的顶端VLS生长;步骤5:在低As压的环境中,在GaAs纳米线的侧壁上低速淀积InAs量子点;步骤6:在InAs量子点上生长GaAs层,形成分叉结构基片;步骤7:在分叉结构基片上覆盖AlGaAs势垒层;步骤8:在AlGaAs势垒层的表面生长GaAs保护层,进行工艺制备形成可调控多端量子器件,完成制备。 | ||
交易流程
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01
选取所需
专利 -
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确认专利
可交易 - 03 签订合同
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确认变更
成功 - 06 支付尾款
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