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固态孔阵及其制作方法

  • 申请号:CN201210226670.6
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN103510088A
  • 公开(公开)日:2014.01.15
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 固态孔阵及其制作方法
申请号 CN201210226670.6 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103510088A 公开(授权)日 2014.01.15
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 董立军;赵超
主分类号 C23F1/02(2006.01)I IPC主分类号 C23F1/02(2006.01)I;C23F1/32(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I
专利有效期 固态孔阵及其制作方法 至固态孔阵及其制作方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种固态孔阵及其制作方法,其中固态孔阵的制作方法包括:在衬底的顶面和底面上分别形成底部孔阵基底和顶部孔阵基底;在顶部孔阵基底中形成正面孔;在具有顶部孔阵基底的衬底上形成顶部保护层,并在底部孔阵基底上形成底部保护层;在底部孔阵基底和底部保护层中形成背面窗口;以及通过碱腐蚀蚀穿衬底,以使正面孔与背面窗口连通。此外,本公开还提供了一种固态孔阵。通过本公开的方法,增加了正面薄膜的强度,简化了工艺步骤,降低了成本,同时更适合大规模制造。

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