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用于无水胶印制版的底涂液及其制备方法和应用

  • 申请号:CN201210211229.0
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院化学研究所
  • 公开(公开)号:CN103509450A
  • 公开(公开)日:2014.01.15
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 用于无水胶印制版的底涂液及其制备方法和应用
申请号 CN201210211229.0 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103509450A 公开(授权)日 2014.01.15
申请(专利权)人 中国科学院化学研究所 发明(设计)人 周海华;丁国梁;宋延林
主分类号 C09D167/08(2006.01)I IPC主分类号 C09D167/08(2006.01)I;C09D175/14(2006.01)I;C09D167/06(2006.01)I;C09D171/00(2006.01)I;C09D163/10(2006.01)I;C09D4/02(2006.01)I;C09D4/06(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;B05D7/14(2006.01)I;B05D3/06(2006.01)I;B41C1/10(2006.01)I
专利有效期 用于无水胶印制版的底涂液及其制备方法和应用 至用于无水胶印制版的底涂液及其制备方法和应用 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及用于无水胶印制版的底涂液及其制备方法和应用。本发明将成膜树脂、光反应树脂、预聚物、光反应单体、分散剂、光引发剂、无机纳米颗粒及余量的有机溶剂混合,利用球磨机进行研磨分散后得到所述的用于无水胶印制版的底涂液。将所述的底涂液均匀涂布在无电化学处理的并经除油洗涤的铝版基上;用UV灯进行光固化。本发明的底涂液能使版基与感光层之间相互粘结紧密结合,以减少电解、阳极氧化引起的污染;再在感光层上涂布硅橡胶层,曝光显影后,图文区的硅橡胶层除去,感光层树脂亲墨,非图文区的硅橡胶层斥墨,从而实现图像转印。由于印刷过程无水的参与,避免了水墨乳化,提高了版材的耐印率及印刷品的精度。

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