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一种大数值孔径的投影光学系统

  • 申请号:CN201310470645.7
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
  • 公开(公开)号:CN103499877A
  • 公开(公开)日:2014.01.08
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种大数值孔径的投影光学系统
申请号 CN201310470645.7 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103499877A 公开(授权)日 2014.01.08
申请(专利权)人 中国科学院光电技术研究所 发明(设计)人 邓超;邢廷文;廖志远;朱红伟;杨雄;白瑜
主分类号 G02B17/08(2006.01)I IPC主分类号 G02B17/08(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I
专利有效期 一种大数值孔径的投影光学系统 至一种大数值孔径的投影光学系统 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及一种大数值孔径的投影光学系统,用于将物平面上的图案经过一定比例的缩放后投射到像平面上,所述的投影光学系统从物面到像面依次有五个镜组,其中,第一个镜组为平板玻璃,它充当系统的保护玻璃;第二个镜组为纯折射镜组,它的作用是将物平面上的图案投射到第一中间像平面上;第三个镜组包含了至少一个凹面反射镜,它的作用是将第一中间像平面上的图案投射到第二中间像平面上;第四镜组和第五镜组都为纯折射镜组,它们的作用是将第二中间像平面上的图案投射到像平面上。采用本发明的浸没式投影光学系统,除了可实现数值孔径大于1之外,能有效地降低制造成本,降低镜片的加工、检测和装调难度。

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