一种大数值孔径的投影光学系统
- 申请号:CN201310470645.7
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
- 公开(公开)号:CN103499877A
- 公开(公开)日:2014.01.08
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种大数值孔径的投影光学系统 | ||
| 申请号 | CN201310470645.7 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN103499877A | 公开(授权)日 | 2014.01.08 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明(设计)人 | 邓超;邢廷文;廖志远;朱红伟;杨雄;白瑜 |
| 主分类号 | G02B17/08(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B17/08(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种大数值孔径的投影光学系统 至一种大数值孔径的投影光学系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明涉及一种大数值孔径的投影光学系统,用于将物平面上的图案经过一定比例的缩放后投射到像平面上,所述的投影光学系统从物面到像面依次有五个镜组,其中,第一个镜组为平板玻璃,它充当系统的保护玻璃;第二个镜组为纯折射镜组,它的作用是将物平面上的图案投射到第一中间像平面上;第三个镜组包含了至少一个凹面反射镜,它的作用是将第一中间像平面上的图案投射到第二中间像平面上;第四镜组和第五镜组都为纯折射镜组,它们的作用是将第二中间像平面上的图案投射到像平面上。采用本发明的浸没式投影光学系统,除了可实现数值孔径大于1之外,能有效地降低制造成本,降低镜片的加工、检测和装调难度。 | ||
交易流程
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