专利详情

专利名称	一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法
申请号	CN201310380360.4	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103488051A	公开（授权）日	2014.01.01
申请（专利权）人	中国科学院高能物理研究所	发明（设计）人	伊福廷
主分类号	G03F7/16(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/16(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I
专利有效期	一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法至一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法，该方法采用金属丝网作为基片，并通过热压方法将PMMA光刻胶薄片粘接在该金属丝网上。利用本发明，采用金属丝网结构能够有效提供PMMA光刻胶与金属丝网从分相互包裹融合，使同步辐射光刻后的PMMA光刻胶柱子结构牢固地与金属丝网结合，不会发生倒塌和脱落，保证了PMMA光刻胶柱子结构具有非常大的高宽比，从而提高了LIGA技术的研究水平。