专利详情

专利名称	一种利用双光谱成像进行雾场粒径平面分布测量的装置
申请号	CN201310337431.2	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103398925A	公开（授权）日	2013.11.20
申请（专利权）人	中国科学技术大学	发明（设计）人	刘维来;张钟秀;王克逸;王声波
主分类号	G01N15/02(2006.01)I	IPC主分类号	G01N15/02(2006.01)I
专利有效期	一种利用双光谱成像进行雾场粒径平面分布测量的装置至一种利用双光谱成像进行雾场粒径平面分布测量的装置	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提出一种利用双光谱成像进行雾场粒径平面分布测量的装置，该装置以激光片激发雾场的一个面（下文称之为激发面），激发面的液滴中含有受激光激发而产生荧光的物质。对激发面的微液滴群受激光片激发产生的Mie散射光和荧光散射光分别成像，综合利用这两幅图像信息，计算出激发面的SMD(Sault?Mean?Diameter，索特平均粒径)粒径分布数据。本发明提出的测量装置，相对于PDA技术，具有更高的测量效率和更高的空间分辨率，它可以将PDA的单点测量功能拓展至二维平面测量功能，且本发明利用一个相机，同时拍得两种不同光谱（Mie散射光谱和荧光光谱）图像，这与两个相机分别拍摄两种不同光谱图像方案相比，结构更简单，成本降低，时序控制也更简单可靠。