专利详情

专利名称	光栅刻划刀调整装置及其方法
申请号	CN201310353770.X	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103399585A	公开（授权）日	2013.11.20
申请（专利权）人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	发明（设计）人	唐玉国;于海利;李晓天;杨超;齐向东;巴音贺希格
主分类号	G05D3/12(2006.01)I	IPC主分类号	G05D3/12(2006.01)I;B26D5/06(2006.01)I
专利有效期	光栅刻划刀调整装置及其方法至光栅刻划刀调整装置及其方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	光栅刻划刀调整装置及其方法属于光栅刻划机械自动控制领域，目的在于实现高精度、高性能光栅的刻制。本发明的压电陶瓷设于承载座上，刀架定位安装头与压电陶瓷的输出端连接，刀架位于刀架定位安装头的下方，测量装置固定于承载座，n个封闭力机构设于承载座和刀架定位安装头之间，抬落刀机构安装在刀架定位安装头上，实现刀架的抬起和落下；压电陶瓷和测量装置与数据采集控制模块连接，数据采集控制模块控制压电陶瓷驱动刀架定位安装头产生位移量，调节刀架的运行误差。本发明压电陶瓷执行微定位时的负载质量较轻，提高了动态调节带宽和动态精度，降低了金刚石刻刀相对光栅基底间的误差，实现高精度、高性能光栅的刻制。