一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法
- 申请号:CN201110396196.7
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
- 公开(公开)号:CN103132006A
- 公开(公开)日:2013.06.05
- 法律状态:公开
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专利详情
| 专利名称 | 一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法 | ||
| 申请号 | CN201110396196.7 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN103132006A | 公开(授权)日 | 2013.06.05 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明(设计)人 | 邵花;王文东;刘邦武;夏洋;李勇滔 |
| 主分类号 | C23C4/12(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C4/12(2006.01)I;C23C4/10(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法 至一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法 | 法律状态 | 公开 |
| 说明书摘要 | 本发明涉及Y2O3陶瓷涂层制造技术领域,具体涉及一种等离子氢处理制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法。所述方法,包括如下步骤:步骤(1),选择纯度大于99.95%的Y2O3粉末;步骤(2),对待喷涂的基材表面进行预处理;步骤(3),通过等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂,制备出Y2O3涂层;步骤(4),将步骤(4)中制备出的Y2O3涂层进行等离子体氢处理,即可得到黑色的Y2O3涂层。本发明利用等离子体氢还原法制备的黑色Y2O3涂层,具有耐刻蚀、耐脏的性能,且成本较低。 | ||
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