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电容式超声传感器芯片及其制作方法

  • 申请号:CN201210132866.9
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院深圳先进技术研究院
  • 公开(公开)号:CN103379392A
  • 公开(公开)日:2013.10.30
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 电容式超声传感器芯片及其制作方法
申请号 CN201210132866.9 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103379392A 公开(授权)日 2013.10.30
申请(专利权)人 中国科学院深圳先进技术研究院 发明(设计)人 俞挺;彭本贤;于峰崎
主分类号 H04R1/00(2006.01)I IPC主分类号 H04R1/00(2006.01)I;H04R31/00(2006.01)I
专利有效期 电容式超声传感器芯片及其制作方法 至电容式超声传感器芯片及其制作方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及一种电容式超声传感器芯片,其包括表面设有第一区域和第二区域的掺杂硅衬底;所述第一区域具有金属导电层延伸至第二区域的集成电路;所述位于第二区域的金属导电层上覆盖有附加膜,所述附加膜上覆盖有可导电的振动膜,所述附加膜中具有连接振动膜的接触通孔,所述附加膜和振动膜之间形成有空腔。上述电容式超声传感器芯片中,系在CMOS标准制造工艺的集成电路的金属导电层上覆盖附加膜、牺牲层及可导电的振动膜,最终制成传感器微单元,不改变现有CMOS工艺,兼容性好。此外,还涉及一种电容式超声传感器芯片的制作方法。

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