专利详情

专利名称	微孔薄膜微流控芯片及其制备方法与应用
申请号	CN201210122279.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103372469A	公开（授权）日	2013.10.30
申请（专利权）人	中国科学院化学研究所	发明（设计）人	齐莉;杨俊;马会民
主分类号	B01L3/00(2006.01)I	IPC主分类号	B01L3/00(2006.01)I;G01N33/48(2006.01)I;G01N21/78(2006.01)I
专利有效期	微孔薄膜微流控芯片及其制备方法与应用至微孔薄膜微流控芯片及其制备方法与应用	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种微孔薄膜微流控芯片及其制备方法与应用。该方法，包括如下步骤：1)以微孔薄膜为载体，将其浸润光刻胶、静置、烘干后得到光刻胶薄膜；2)将掩膜覆盖在步骤1)所得光刻胶薄膜上进行曝光，曝光完毕溶解所述光刻胶，得到微流控芯片通道，再进行等离子处理后，得到所述微孔薄膜微流控芯片。该方法的芯片制作过程简单快捷，材料的选取新颖独特，成本低，来源广泛，可用于大批量生产。所有操作步骤在常规实验室均可完成，适用性强，芯片制作过程采用了稀碱溶液等常规试剂，避免了腐蚀性试剂的使用，环境相容性好。