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Si衬底的四结级联太阳能电池及其制备方法

  • 申请号:CN201310219216.2
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
  • 公开(公开)号:CN103346190A
  • 公开(公开)日:2013.10.09
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 Si衬底的四结级联太阳能电池及其制备方法
申请号 CN201310219216.2 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103346190A 公开(授权)日 2013.10.09
申请(专利权)人 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 发明(设计)人 赵勇明;董建荣;李奎龙;孙玉润;曾徐路;于淑珍;赵春雨;杨辉
主分类号 H01L31/0687(2012.01)I IPC主分类号 H01L31/0687(2012.01)I;H01L31/0693(2012.01)I;H01L31/18(2006.01)I
专利有效期 Si衬底的四结级联太阳能电池及其制备方法 至Si衬底的四结级联太阳能电池及其制备方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及半导体技术领域,尤其是指一种四结级联太阳能电池,包括从下至上依次设置在Si衬底上的第一键合层、InGaAsP/InGaAs双结电池、第二键合层、第三键合层、GaInP/GaAs双结电池,使所述InGaAsP/InGaAs双结电池、GaInP/GaAs双结电池在Si衬底上形成串联。本发明还提供这种太阳能电池的制备方法。本发明采用Si衬底作为支撑衬底具有良好的机械强度。同时,采用了键合后再正装生长薄层的双结电池的方式,且GaAs与InP薄层键合方法实现了四结电池的晶格匹配生长,相比晶格失配生长,材料的晶体质量有所保证。

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