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一种基于自适应技术的二维平面采样方法

  • 申请号:CN201310231667.8
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
  • 公开(公开)号:CN103310447A
  • 公开(公开)日:2013.09.18
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种基于自适应技术的二维平面采样方法
申请号 CN201310231667.8 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103310447A 公开(授权)日 2013.09.18
申请(专利权)人 中国科学院光电技术研究所 发明(设计)人 王楠;蒋薇;严伟;胡松
主分类号 G06T7/00(2006.01)I IPC主分类号 G06T7/00(2006.01)I
专利有效期 一种基于自适应技术的二维平面采样方法 至一种基于自适应技术的二维平面采样方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及一种基于自适应技术的二维平面采样方法,首先使用均匀的稀疏网格进行一次采样,由评估算法对采样结果进行评价,得到具有不同频率范围的分区域,对各分区域的网格测量点进行替换;然后由新生成的网格对采样物体的表面进行二次采样,再次使用评估算法对测量结果进行评价,根据频率的高低对网格进行修正;如此反复进行修正,直到通过评估算法为止。最后由测量系统根据此测量网格对需采样物体表面进行采样。本发明能保证采样点个数最少,也能保证相同采样点个数情况下,采样效果最佳。

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