一种温度连续可调的喷淋头
- 申请号:CN201310258291.X
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
- 公开(公开)号:CN103305809A
- 公开(公开)日:2013.09.18
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 一种温度连续可调的喷淋头 | ||
| 申请号 | CN201310258291.X | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN103305809A | 公开(授权)日 | 2013.09.18 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 发明(设计)人 | 阮孟财;朱建军;边历峰;任昕 |
| 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C16/44(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I |
| 专利有效期 | 一种温度连续可调的喷淋头 至一种温度连续可调的喷淋头 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 一种温度连续可调的喷淋头,用于进行金属有机化学沉积反应,包括:进气单元;反应室上盖;连接于进气单元和反应室上盖的喷淋管;其特征在于,还包括:调温盘组件,调温盘组件包括调温盘及分设两边的入口通道和出口通道,调温盘内设有供冷却介质流通的空腔,相对密封的空腔与入口通道和出口通道与空腔连通,调温盘上还对应喷淋管设有通孔,喷淋管穿插于通孔中,高温盘可上下移动连接于反应室上盖和进气单元之间;位移装置,用于调节调温盘组件上下移动。本发明可通过改变调温盘与反应室上盖的距离来调整反应室内顶端空间的温度,在生长HEMT器件、LED行业广泛应用,不仅可以解决反应室内温度梯度的有效控制问题,还能提高源的使用效率。 | ||
交易流程
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专利 -
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