硅基横向纳米线多面栅晶体管及其制备方法
- 申请号:CN201310233363.5
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
- 公开(公开)号:CN103311305A
- 公开(公开)日:2013.09.18
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 硅基横向纳米线多面栅晶体管及其制备方法 | ||
| 申请号 | CN201310233363.5 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN103311305A | 公开(授权)日 | 2013.09.18 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明(设计)人 | 韩伟华;王昊;马刘红;洪文婷;杨晓光;杨涛;杨富华 |
| 主分类号 | H01L29/78(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L29/78(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;B82Y10/00(2011.01)I |
| 专利有效期 | 硅基横向纳米线多面栅晶体管及其制备方法 至硅基横向纳米线多面栅晶体管及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明提供了一种硅基横向纳米线多面栅晶体管及其制备方法。该硅基横向纳米线多面栅晶体管通过化学腐蚀形成相对的两具有硅(111)晶面的端面,在该相对的两硅(111)晶面之间实现了III-V材料纳米线横向生长并形成桥接结构,从而容易实现多面金属栅在平面上的逻辑集成。 | ||
交易流程
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