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硅基横向纳米线多面栅晶体管及其制备方法

  • 申请号:CN201310233363.5
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
  • 公开(公开)号:CN103311305A
  • 公开(公开)日:2013.09.18
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 硅基横向纳米线多面栅晶体管及其制备方法
申请号 CN201310233363.5 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103311305A 公开(授权)日 2013.09.18
申请(专利权)人 中国科学院半导体研究所 发明(设计)人 韩伟华;王昊;马刘红;洪文婷;杨晓光;杨涛;杨富华
主分类号 H01L29/78(2006.01)I IPC主分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;B82Y10/00(2011.01)I
专利有效期 硅基横向纳米线多面栅晶体管及其制备方法 至硅基横向纳米线多面栅晶体管及其制备方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明提供了一种硅基横向纳米线多面栅晶体管及其制备方法。该硅基横向纳米线多面栅晶体管通过化学腐蚀形成相对的两具有硅(111)晶面的端面,在该相对的两硅(111)晶面之间实现了III-V材料纳米线横向生长并形成桥接结构,从而容易实现多面金属栅在平面上的逻辑集成。

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