长波长GaNAsBi/GaAs多量子阱激光器及其制备方法
- 申请号:CN201310202050.3
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
- 公开(公开)号:CN103280695A
- 公开(公开)日:2013.09.04
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
| 专利名称 | 长波长GaNAsBi/GaAs多量子阱激光器及其制备方法 | ||
| 申请号 | CN201310202050.3 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN103280695A | 公开(授权)日 | 2013.09.04 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 发明(设计)人 | 曾徐路;董建荣;李奎龙;孙玉润;于淑珍;赵勇明;赵春雨;杨辉 |
| 主分类号 | H01S5/343(2006.01)I | IPC主分类号 | H01S5/343(2006.01)I |
| 专利有效期 | 长波长GaNAsBi/GaAs多量子阱激光器及其制备方法 至长波长GaNAsBi/GaAs多量子阱激光器及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
| 说明书摘要 | 本发明公开了一种长波长GaNAsBi/GaAs多量子阱激光器,包括顺次连接的下限制层、下波导层、有源区、上波导层、电子阻挡层、上限制层、欧姆接触层,其中,所述有源区采用GaNAsBi/GaAs多量子阱结构。本发明可降低激光器阈值电流,提高激光器增益,实现无制冷工作,适合面发射激光器等多类激光器,其生产成本低于InP基激光器,且该多量子阱激光器有源区不含Al,可降低生长工艺的难度,提高激光器的良率和寿命。 | ||
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