专利详情

专利名称	一种多孔分离膜的间歇式等离子体改性方法
申请号	CN201310188878.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103272482A	公开（授权）日	2013.09.04
申请（专利权）人	中国科学院过程工程研究所	发明（设计）人	沈飞;万印华;康英珂;闫会;吴欢欢;刘丽霞
主分类号	B01D67/00(2006.01)I	IPC主分类号	B01D67/00(2006.01)I;B01D69/02(2006.01)I
专利有效期	一种多孔分离膜的间歇式等离子体改性方法至一种多孔分离膜的间歇式等离子体改性方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供一种制备多孔分离膜的间歇式等离子体改性方法，包括下述步骤，将常规超滤膜或微滤膜固定于装有电极板的室温等离子体腔室中，在一定真空度条件下将气体引入腔室，室温下采用间歇辉光放电方式处理基膜表面，获得最终亲水性或疏水性多孔分离膜产品。与现有连续式和脉冲式室温等离子体改性方法相比，本发明提供的改性方法过程简单、可控性强且无需特殊设备，可显著增强多孔分离膜表面的亲水性或疏水性；所制亲水性多孔分离膜可广泛应用于超滤、微滤、透析等过程，所制疏水性多孔分离膜可广泛应用于膜蒸馏、膜吸收、膜萃取、蒸汽渗透、油性料液澄清等过程，所制多孔分离膜也可以作为基膜用于复合膜的制备。