专利详情

专利名称	一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法
申请号	CN201310210094.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103265174A	公开（授权）日	2013.08.28
申请（专利权）人	中国科学院西安光学精密机械研究所	发明（设计）人	侯超奇;彭波;陆敏;王鹏飞;高飞;李玮楠
主分类号	C03C6/06(2006.01)I	IPC主分类号	C03C6/06(2006.01)I;C03B19/02(2006.01)I
专利有效期	一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法至一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供一种高损伤阈值基频光吸收材料的制备方法，包括以下步骤：1)准备原材料以及摩尔配比；2)将混合均匀的粉料加入坩埚中并熔融；3)玻璃液降温后，将其注入模具中成型；4)将玻璃进行退火；即得到高损伤阈值的基频光吸收玻璃。本发明解决了光栅、分光膜、分光棱镜在强激光下分光的损伤问题，提高激光器的负载能力，在近紫外波段高透，具很好的成玻性能，同时材料还具有高的激光损伤阈值，可作为基频光吸收材料用于强激光领域。