专利详情

专利名称	一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法
申请号	CN201310210092.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103265173A	公开（授权）日	2013.08.28
申请（专利权）人	中国科学院西安光学精密机械研究所	发明（设计）人	彭波;侯超奇;陆敏;王鹏飞;高飞;李玮楠
主分类号	C03C6/06(2006.01)I	IPC主分类号	C03C6/06(2006.01)I;C03B19/02(2006.01)I
专利有效期	一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法至一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提出了一种高损伤阈值二倍频光吸收材料的制备方法。该方法采用的原料组分为AlF3、BaF2、MgF2、SiO2、Y2O3、CoO，所占摩尔百分数分别为25～40%、15～30%、10～25%、14～25.5%、2～4%、2～3.5%；称取原料混合均匀，加入钳锅，熔制温度控制在1050--1150℃左右，并持续搅拌；待熔融得到澄清玻璃液后，降温至900-950℃，将高温的玻璃液注入到已经预热好的模具中成型；快速放入马弗炉中，以10℃/小时进行退火，直到温度降至50℃，关闭马弗炉，待自然降至室温，取出最终成品。该方法制备得到的材料损伤阈值高，可选择性地滤掉二倍频光，在紫外波段高透。