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光机分离式双腔准分子激光器整机框架系统

  • 申请号:CN201310150300.3
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院光电研究院
  • 公开(公开)号:CN103259159A
  • 公开(公开)日:2013.08.21
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 光机分离式双腔准分子激光器整机框架系统
申请号 CN201310150300.3 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103259159A 公开(授权)日 2013.08.21
申请(专利权)人 中国科学院光电研究院 发明(设计)人 丁金滨;齐威;刘斌;沙鹏飞;周翊;王宇;赵江山
主分类号 H01S3/02(2006.01)I IPC主分类号 H01S3/02(2006.01)I
专利有效期 光机分离式双腔准分子激光器整机框架系统 至光机分离式双腔准分子激光器整机框架系统 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种双腔准分子激光器整机框架系统,所述双腔准分子激光器包括有主振荡放电腔、功率放大腔以及与该两个腔体相关的光学系统,所述系统包括安装基座(1)、基础框架(2)、光学系统框架(3)和放电腔框架(4),其中,所述安装基座(1)是该整机框架系统的基座,用于承载所有整机框架系统的部件;所述基础框架(2)直接固定安装在所述安装基座(1)上;所述光学系统框架(3)用于安装所述光学系统,并与所述放电腔框架(4)隔离;所述放电腔框架(4)安装在所述安装基座(1)上,用于承载所述主振荡放电腔和功率放大腔。本发明能够降低放电腔对光学系统的影响。

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