基于双测头扫描数据拼接的工件转台误差分离的测量装置及方法
- 申请号:CN201110414841.3
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
- 公开(公开)号:CN102519416A
- 公开(公开)日:2012.06.27
- 法律状态:公开
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专利详情
| 专利名称 | 基于双测头扫描数据拼接的工件转台误差分离的测量装置及方法 | ||
| 申请号 | CN201110414841.3 | 专利类型 | 发明专利 |
| 公开(公告)号 | CN102519416A | 公开(授权)日 | 2012.06.27 |
| 申请(专利权)人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明(设计)人 | 景洪伟;匡龙;吴时彬;曹学东 |
| 主分类号 | G01B21/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B21/20(2006.01)I |
| 专利有效期 | 基于双测头扫描数据拼接的工件转台误差分离的测量装置及方法 至基于双测头扫描数据拼接的工件转台误差分离的测量装置及方法 | 法律状态 | 公开 |
| 说明书摘要 | 本发明公开了一种基于双测头扫描数据拼接的工件转台误差分离的测量装置及方法,该装置在由测头系统(1)、横臂(2)、立柱(3)、配重(4)、标准平晶(5)、工件转台(6)和横臂转台(7)组成的摆臂式轮廓仪上采用两套测头系统(1、1′)同时进行扫描测量;两套测头系统扫描一次后得到两根扫描轨迹M1,以一定角度β旋转工作转台再进行一次扫描,得到另外两根扫描轨迹M2;本发明采用双测头扫描数据拼接的方法,可以有效地分离去除工件转台的运动误差对测量结果的影响,从而大大提高了测量精度,为摆臂式轮廓仪在光学加工现场的在位测量提供了实用化的解决方案。 | ||
交易流程
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