专利详情

专利名称	一种阵列式多光谱滤光片及其制作方法
申请号	CN201310180095.5	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103245996A	公开（授权）日	2013.08.14
申请（专利权）人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	发明（设计）人	吴一辉;周文超;郝鹏;李凯伟;刘桂根;刘永顺
主分类号	G02B5/20(2006.01)I	IPC主分类号	G02B5/20(2006.01)I
专利有效期	一种阵列式多光谱滤光片及其制作方法至一种阵列式多光谱滤光片及其制作方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及一种阵列式多光谱滤光片及其制作方法，属于微纳米滤光片领域。解决现有微流控芯片中多通道阵列化检测的集成化问题。该滤光片只包括二维金属光栅层、缓冲层、波导层和基底四层结构。本发明还提供了滤光片的制作方法，是利用二维金属光栅的导模共振原理，通过调节光栅周期实现不同波长的选择。通过缓冲层的厚度还可以调节透过波长的半波带宽。通过调节二维金属光栅层的合适的占空比，可以减少旁瓣。因此，本发明的方法制作的阵列式多光谱滤光片相对于其他可调谐滤光片来说，具有结构简单、旁瓣低、半波带宽可调、透过率高、与偏振无关等突出优点。应用本发明的滤光片，能够实现微流控芯片的集成化。