专利详情

专利名称	应力匹配的双材料微悬臂梁的制造方法
申请号	CN201210024934.X	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103241706A	公开（授权）日	2013.08.14
申请（专利权）人	中国科学院微电子研究所	发明（设计）人	尚海平;焦斌斌;刘瑞文;陈大鹏;李志刚;卢迪克
主分类号	B81C1/00(2006.01)I	IPC主分类号	B81C1/00(2006.01)I;C23C16/40(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I
专利有效期	应力匹配的双材料微悬臂梁的制造方法至应力匹配的双材料微悬臂梁的制造方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种应力匹配的双材料微悬臂梁的制造方法，包括：在衬底上采用LPCVD沉积应力为F1的压应力SiO2膜，F1＜0；对压应力SiO2膜注入掺杂剂，在其表面形成重掺杂SiO2膜退火使得压应力SiO2膜转变为应力为F2的张应力SiO2膜，F2＞0；控制淀积温度，在重掺杂SiO2膜上方形成具有应力为F3的Al薄膜，其中F3＝F2。依照本发明的应力匹配的双材料微悬臂梁的制造方法，其工艺简单、与传统微细加工工艺兼容，不但实现双材料悬臂梁的应力完全匹配，而且明显增强SiO2的抗XeF2腐蚀能力，最终使采用Al和SiO2双材料的、应力完全匹配的悬臂梁制作成功实现。