专利详情

专利名称	基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统
申请号	CN201310106402.5	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103217874A	公开（授权）日	2013.07.24
申请（专利权）人	中国科学院力学研究所	发明（设计）人	蓝鼎;吴奎;魏同波;王育人
主分类号	G03F7/207(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/207(2006.01)I
专利有效期	基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统至基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开一种基于胶体微球纳米透镜的无掩模光刻系统，用以实现微纳米结构的转移。本系统基于现有光刻系统，利用胶体微球制备的纳米透镜对光束进行聚集，形成的聚焦阵列对光刻胶感光，可以实现间距为100nm-2000nm的点阵排列。此系统实现微纳米点阵结构，工艺简单，不需要添加额外的设备，克服了纳米球光刻工艺中，需要重复组装微纳米球所导致的产业化困难、工艺效率低下以及由此产生的质量不可控等缺点。本发明在图形转移上高度可控、图形高度精确有序、图形花样多样、操作简单、成本低廉，便于工业化生产，在制备纳米图形衬底、量子点、等离子体、网孔电极、光子晶体和微纳米器件等上有很好的应用前景。