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一种SAR图像仿真过程中方位向聚焦位置的计算方法

  • 申请号:CN201310100914.0
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院电子学研究所
  • 公开(公开)号:CN103217686A
  • 公开(公开)日:2013.07.24
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种SAR图像仿真过程中方位向聚焦位置的计算方法
申请号 CN201310100914.0 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103217686A 公开(授权)日 2013.07.24
申请(专利权)人 中国科学院电子学研究所 发明(设计)人 张月婷;仇晓兰;丁赤飚;胡玉新;雷斌;付琨
主分类号 G01S13/90(2006.01)I IPC主分类号 G01S13/90(2006.01)I
专利有效期 一种SAR图像仿真过程中方位向聚焦位置的计算方法 至一种SAR图像仿真过程中方位向聚焦位置的计算方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明提供了一种SAR图像仿真过程中方位向聚焦位置的计算方法,能有效的表达合成孔径因素对方位向聚焦位置的影响,使得仿真图像中由于合成孔径产生的SAR图像特征充分表现出来。第一步,确定初始等相位面和射线起点:在目标近雷达一侧,根据雷达波束入射的方向选定初始等相位平面,并在该平面上确定射线起点坐标;第二步,计算目标坐标系下射线起点的坐标,根据坐标变换矩阵T;第三步,射线循迹,根据第二步的射线起点坐标,根据射线理论计算射线在等相位面的出射点B的位置;第四步,计算该条射线的近似方位向聚焦位置。

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