专利详情

专利名称	一种反应等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法
申请号	CN201210002114.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103194716A	公开（授权）日	2013.07.10
申请（专利权）人	中国科学院微电子研究所	发明（设计）人	王文东;闫坤坤;黄春;刘邦武;夏洋
主分类号	C23C4/12(2006.01)I	IPC主分类号	C23C4/12(2006.01)I;C23C4/10(2006.01)I
专利有效期	一种反应等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法至一种反应等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供了一种反应等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法，包括如下步骤：步骤(1)，选取碳化硼粉，并将碳化硼粉送入等离子体喷涂设备；步骤(2)，对被喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，通过反应等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂，制备出碳化硼涂层。本发明使用甲烷气(CH4)代替氢气作为辅助工作气体进行喷涂，甲烷气电离后具有还原性能保护B4C不被氧化，同时因为气体中含有C，通过其与B4C的反应，可降低甚至防止B4C在高温下的C流失，获得性能良好的B4C涂层。