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一种原子层沉积设备

  • 申请号:CN201210001945.6
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN103194733A
  • 公开(公开)日:2013.07.10
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种原子层沉积设备
申请号 CN201210001945.6 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103194733A 公开(授权)日 2013.07.10
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 张艳清;夏洋;李超波;万军;吕树玲;陈波;石莎莉;李楠
主分类号 C23C16/44(2006.01)I IPC主分类号 C23C16/44(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I
专利有效期 一种原子层沉积设备 至一种原子层沉积设备 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及一种原子层沉积设备,尤其是涉及一种使用集显示和控制于一体的嵌入式控制单元作为控制系统主控部件的原子层沉积设备。所述原子层沉积设备,包括主控部件、电气控制部件、真空部件、加热部件和气路部件,主控部件分别与电气控制部件、真空部件、加热部件和气路部件连接,电气控制部件分别与真空部件、加热部件和气路部件连接,主控部件为集显示与控制于一体的控制设备。本发明采用集显示和控制于一体的主控部件代替传统的显示器+工控机+PLC(或控制板卡)的控制架构,使得设备结构简洁清晰、占用体积小、组装和维护简单方便、可靠性高,能够有效防止设备运行中意外事故的发生。

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