专利详情

专利名称	消除圆对称位相型计算全息基片条纹图形畸变的方法
申请号	CN201310127454.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103196390A	公开（授权）日	2013.07.10
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	冯婕;邓超;姚政鹏;邢廷文
主分类号	G01B11/24(2006.01)I	IPC主分类号	G01B11/24(2006.01)I
专利有效期	消除圆对称位相型计算全息基片条纹图形畸变的方法至消除圆对称位相型计算全息基片条纹图形畸变的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供消除圆对称位相型计算全息基片条纹图形畸变的方法，从扩展光源发出的光经泰曼-格林干涉仪两臂后发生等倾干涉，产生中心稀疏边缘密集的等倾干涉圆条纹并用电耦合器件记录，利用等倾干涉产生的同心圆条纹形成圆光栅，将计算全息基片用不透明液体处理形成圆对称的二值振幅型光栅；设定圆对称的二值振幅型光栅上刻蚀的同心圆条纹与圆光栅上的等倾干涉圆条纹形成莫尔条纹条件；利用计算机记录带有条纹图形畸变信息的莫尔条纹图和不带有条纹图形畸变的莫尔条纹图，将两幅莫尔条纹图进行比较和数据处理，得到计算全息基片条纹图形畸变值，使用人工合成畸变图剔除掉计算全息基片条纹图形畸变对非球面检测结果的影响，实现非球面高精度检测。