专利详情

专利名称	一种气体分配器及原子层沉积设备
申请号	CN201210001944.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103194736A	公开（授权）日	2013.07.10
申请（专利权）人	中国科学院微电子研究所	发明（设计）人	张艳清;夏洋;李超波;万军;吕树玲;陈波;石莎莉;李楠
主分类号	C23C16/455(2006.01)I	IPC主分类号	C23C16/455(2006.01)I
专利有效期	一种气体分配器及原子层沉积设备至一种气体分配器及原子层沉积设备	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及原子层沉积设备技术领域，具体涉及一种气体分配器及包括该气体分配器的原子层沉积设备。所述气体分配器，包括进气管道、过渡管道和配气盘，所述配气盘固定设置在所述过渡管道的出气口，所述过渡管道的进气口与所述进气管道连接，所述配气盘上有出气孔，所述配气盘的外表面设有倾斜设置的气体导流板。本发明能够实现前躯体完整地覆盖样品表面，而且由于气体具有水平方向的分速度，使覆盖整个基片变得更为快速，很好地提高薄膜均匀性，有效地降低了成本。