专利详情

专利名称	一种用于原子层沉积设备的气体分配器
申请号	CN201210002317.X	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103194737A	公开（授权）日	2013.07.10
申请（专利权）人	中国科学院微电子研究所	发明（设计）人	张艳清;夏洋;李超波;万军;吕树玲;陈波;石莎莉;李楠
主分类号	C23C16/455(2006.01)I	IPC主分类号	C23C16/455(2006.01)I
专利有效期	一种用于原子层沉积设备的气体分配器至一种用于原子层沉积设备的气体分配器	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及原子层沉积设备技术领域，具体涉及一种用于原子层沉积设备的气体分配器。所述用于原子层沉积设备的气体分配器，所述气体分配器设置在原子层沉积设备的反应腔室内，位于所述反应腔室内基片台的上方；所述气体分配器为环型或U型的气路管道，所述气路管道上设有一个进气口和若干个出气口；所述进气口与所述反应腔室的进气管道相连通，所述出气口均匀分布在所述气路管道的内外两侧，所述出气口的出气方向与垂直方向形成倾斜角度。本发明具备结构简单，易于加工，成本低廉的优点，在满足ALD沉积方式的同时，能够实现前躯体完整地覆盖样品表面，可以很好地提高薄膜均匀性。