专利详情

专利名称	一种等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法
申请号	CN201210001927.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103194714A	公开（授权）日	2013.07.10
申请（专利权）人	中国科学院微电子研究所	发明（设计）人	王文东;黄春;闫坤坤;夏洋
主分类号	C23C4/10(2006.01)I	IPC主分类号	C23C4/10(2006.01)I
专利有效期	一种等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法至一种等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供了一种等离子喷涂制备碳化硼涂层的方法，包括如下步骤：步骤(1)，将碳化硼粉和碳粉均匀混合，将混合后的粉末送入等离子体喷涂设备；步骤(2)，对被喷涂的基材表面进行预处理；步骤(3)，通过所述等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂，制备出碳化硼涂层。本发明使用碳掺杂B4C粉等离子喷涂方法制备涂层，当射流喷出后，石墨粉不仅能优先和氧气发生反应，避免B4C的氧化，而且碳的加入，抑制了B4C的高温分解，可降低甚至防止B4C在高温下的C流失，获得性能良好的B4C涂层，同时，碳掺杂不会在涂层中引入杂质元素，保证了涂层质量，且石墨粉的加入可增加粉的流动性，更有利于喷涂。