专利详情

专利名称	放电腔的导流机构、放电腔和激光器
申请号	CN201220622647.4	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN203026783U	公开（授权）日	2013.06.26
申请（专利权）人	中国科学院光电研究院	发明（设计）人	刘斌;丁金滨;王魁波;王宇;周翊;赵江山
主分类号	H01S3/03(2006.01)I	IPC主分类号	H01S3/03(2006.01)I;H01S3/036(2006.01)I
专利有效期	放电腔的导流机构、放电腔和激光器至放电腔的导流机构、放电腔和激光器	法律状态
说明书摘要	本实用新型公开了一种放电腔的导流机构、放电腔和激光器，所述放电腔具有对称的结构，且包括两对电极，该导流机构包括两个叶轮，该两个叶轮分别对应所述两对电极中的一对，其安装位置关于所述放电腔的对称面对称，且位于所述电极的下方，其转动轴平行于电极的轴向，所述电极的轴向平行于所述放电腔的底平面，并且该两个叶轮的转动方向相反，转速相同。所述电流装置还包括阻流片和导流板，以使放电气流以通过放电区域的方式在放电腔内高速、均匀地循环流动，以保证放电质量，从而提高激光能量及其稳定性。