专利详情

专利名称	一种用于光学加工的可调节抛光系统
申请号	CN201220725246.1	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN203003636U	公开（授权）日	2013.06.19
申请（专利权）人	中国科学院西安光学精密机械研究所	发明（设计）人	丁蛟腾;马臻;许亮;凤良杰
主分类号	B24B13/00(2006.01)I	IPC主分类号	B24B13/00(2006.01)I;B24B13/01(2006.01)I
专利有效期	一种用于光学加工的可调节抛光系统至一种用于光学加工的可调节抛光系统	法律状态
说明书摘要	本实用新型涉及一种用于光学加工的可调节抛光系统，包括三脚架、铁笔头组件以及三组抛光装置，抛光装置包括滚珠丝杠组件、滚动直线导轨组件、测量组件、抛光组件；支承座固定在支撑板的纵向两端，手轮与丝杠的一端固连，丝杠通过固定在支承座上的轴承支撑于支承座上，螺母座套接在丝杠上，导轨固定在支撑板上且位于滚珠丝杠组件的一侧，滑块设置在导轨上并沿导轨运动，滑块与螺母座连接；测量组件包括指示装置、设置在滚珠丝杠组件另一侧且沿支撑板纵向布置的刻度装置，位置指示装置与刻度装置对应。本实用新型解决了现有抛光方法的抛光效率低、应用具有局限性的技术问题，本实用新型的抛光效率高，抛光盘连续可调，运动平稳。