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一种等离子体浸没注入电极结构

  • 申请号:CN201110412530.3
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN103165377A
  • 公开(公开)日:2013.06.19
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种等离子体浸没注入电极结构
申请号 CN201110412530.3 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103165377A 公开(授权)日 2013.06.19
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 刘杰;屈芙蓉;李超波;夏洋
主分类号 H01J37/32(2006.01)I IPC主分类号 H01J37/32(2006.01)I;H01J37/04(2006.01)I
专利有效期 一种等离子体浸没注入电极结构 至一种等离子体浸没注入电极结构 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及等离子体浸没注入技术领域,具体涉及一种等离子体浸没注入电极结构。所述等离子体浸没注入电极结构,由内到外依次包括注入电极、绝缘层和屏蔽层,所述注入电极与提供偏置电压的偏置电源连接,所述绝缘层用于所述注入电极和所述屏蔽层的隔离和绝缘,所述屏蔽层接地。本发明采用的电极结构能够明显降低注入时的边缘效应,从而增加注入均匀性,同时减小注入时的溅射污染。

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