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一种纳米层状结构的二硼化钛/镍涂层及其制备方法

  • 申请号:CN201110419340.4
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院宁波材料技术与工程研究所
  • 公开(公开)号:CN103158293A
  • 公开(公开)日:2013.06.19
  • 法律状态:授权
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种纳米层状结构的二硼化钛/镍涂层及其制备方法
申请号 CN201110419340.4 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103158293A 公开(授权)日 2013.06.19
申请(专利权)人 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 发明(设计)人 黄峰;葛芳芳;王博;王怀勇
主分类号 B32B15/04(2006.01)I IPC主分类号 B32B15/04(2006.01)I;B32B18/00(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I
专利有效期 一种纳米层状结构的二硼化钛/镍涂层及其制备方法 至一种纳米层状结构的二硼化钛/镍涂层及其制备方法 法律状态 授权
说明书摘要 本发明涉及一种具有纳米层状结构的二硼化钛/镍涂层及其制备方法,其特征在于该TiB2/Ni涂层是由金属Ni和TiB2原位复合而成,具有多层金属Ni层与TiB2陶瓷层相互叠加而成的纳米层状结构,其中每层的厚度为6-60nm,金属Ni含量为5-30at.%;所述TiB2/Ni涂层中金属Ni层与TiB2陶瓷层的层数为20-100000层,每层金属Ni层的厚度为1-10nm,每层TiB2层的厚度为5-50nm。本发明的纳米层状结构的TiB2/Ni涂层表现出了良好的韧性和很高的硬度,这极大的扩大了此涂层的应用范围。同时本发明用于制备纳米层状结构TiB2/Ni涂层的磁控溅射双靶共沉积技术操作方便,无需后处理等工艺,制备周期短,成本低,可复现性好,可实现工业化大生产。

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