专利详情

专利名称	具有微米与纳米复合阵列结构的柔性材料及其制备方法和用途
申请号	CN201210535488.9	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN103043596A	公开（授权）日	2013.04.17
申请（专利权）人	中国科学院化学研究所	发明（设计）人	董智超;马杰;江雷
主分类号	B81B3/00(2006.01)I	IPC主分类号	B81B3/00(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I
专利有效期	具有微米与纳米复合阵列结构的柔性材料及其制备方法和用途至具有微米与纳米复合阵列结构的柔性材料及其制备方法和用途	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明涉及具有微米与纳米复合阵列结构的柔性材料及其制备方法和用途。以双面蒸镀有二氧化硅的硅片为基底，用光刻和溶液湿法刻蚀的方法，在硅片的表面得到由倒金字塔形凹陷构筑的微米尺寸的微米阵列；以贵金属的颗粒为蒸发源，在硅片的表面及倒金字塔形凹陷的表面蒸镀上金属薄膜，置于马弗炉中，在硅片的表面及倒金字塔形凹陷的表面得到球形金属构筑的纳米阵列；用酸性溶液刻蚀的方法，在硅片表面的球形金属处及倒金字塔形凹陷表面的球形金属处构筑得到纳米尺寸的圆柱形凹陷阵列；以聚合物的预聚体为复型材料，一次复型得到可作为柔性光子材料等使用的本发明的柔性材料。该柔性材料的表面在空气中对水滴的接触角大于170°，滚落角小于2°。