专利详情

专利名称	绝对位置测量装置
申请号	CN201210090799.9	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102607418A	公开（授权）日	2012.07.25
申请（专利权）人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	发明（设计）人	乔栋;吴宏圣;曾琪峰;李也凡;孙强
主分类号	G01B11/00(2006.01)I	IPC主分类号	G01B11/00(2006.01)I
专利有效期	绝对位置测量装置至绝对位置测量装置	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	绝对位置测量装置，属于光电测量技术领域，为了解决现有绝对式测量中存在的抗污染能力差，对光学系统要求高的技术问题，本发明装置包括：保护介质、绝对位置条纹、发光器、凸透镜、光电传感器和位置读出模块，所述绝对位置条纹设置在保护介质内部，所述绝对位置条纹所在的平面与凸透镜主光轴垂直，所述光电传感器所在平面与凸透镜主光轴垂直；所述发光器发出的光线透过保护介质入射到绝对位置条纹上，光线经过绝对位置条纹反射，反射光通过凸透镜在光电传感器上成像，位置读出模块与光电传感器连接。本发明绝对位置测量装置在数控机床加工行业具有广阔的应用空间。