专利详情

专利名称	一种采用单次电子束曝光制备T型栅的方法
申请号	CN201110441236.5	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102509704A	公开（授权）日	2012.06.20
申请（专利权）人	中国科学院微电子研究所	发明（设计）人	王显泰;钟英辉;金智;汪宁
主分类号	H01L21/28(2006.01)I	IPC主分类号	H01L21/28(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	一种采用单次电子束曝光制备T型栅的方法至一种采用单次电子束曝光制备T型栅的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种采用单次电子束曝光制备T型栅的方法，包括：对衬底上的叠层胶进行电子束曝光，进行栅脚版图形的写入；对叠层胶进行显影，利用各层胶的特性不同形成叠层胶的栅脚和栅帽图形；以及对带有叠层胶栅脚和栅帽图形的衬底进行金属镀膜和剥离，形成T型栅。本发明采用具有良好稳定度的4层结构的叠层胶，只需一次电子束写入栅脚图形，配合多次分层显影的方法，可以获得T型栅所需的空间图形，以制备T型栅，该方法有效的减小了电子束写入面积，相应减小了机时占用。